特許
J-GLOBAL ID：200903086486617753
投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-183931
公開番号（公開出願番号）：特開平9-036018
出願日： 1995年07月20日
公開日（公表日）： 1997年02月07日
要約：
【要約】【課題】 投影光学系を透過する光量を常時検出して、投影光学系の結像特性をきめ細かく補正する。【解決手段】 光源1とレチクルRとの間に設けたビームスプリッター10により所定割合だけ反射した照明光ILの光量をインテグレータセンサ40で測定し、基本出力値I0 を検出する。同時にZステージ15上に設けた照射量モニタ20によりそのときの投影光学系14を透過する基本エネルギー線量P0 を検出する。そして、以降必要に応じ、インテグレータセンサ40の光電出力値I(t)から、投影光学系14を透過するエネルギー線量P(t)を、P(t)=P0 ・I(t)/I0 で算出し、そのエネルギー線量P(t)による結像特性の変化を投影光学系14に接続された圧力調整器30により補正する。
請求項（抜粋）：
露光用の光源からの照明光によりマスク上のパターンを照明し、前記パターンを投影光学系を介して感光性の基板上に転写する投影露光装置において、前記投影光学系を透過した前記照明光の光量を計測する第1光電センサと、前記光源からの照明光の少なくとも一部の光量を計測する第2光電センサと、前記第1及び第2光電センサの計測値に基づいて前記投影光学系の結像特性の変化量を算出する演算手段と、該演算手段の算出結果に基づいて前記投影光学系の結像特性を補正する結像特性補正手段と、を有することを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 516 D
, G03F 7/20 521
