無電解ニッケルめっき浴及びそれを用いためっき方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：小島隆司 , 重松沙織 , 小林克成 , 石川武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-360248
公開番号（公開出願番号）：特開2005-126734
出願日： 2003年10月21日
公開日（公表日）： 2005年05月19日
要約：

【課題】 Pb、Bi、Tl、Cdなどの重金属イオンを含まないため人体や環境に優しく、しかも、無電解ニッケルめっき浴として実用に耐えるめっき浴を提供する。【解決手段】水溶性ニッケル塩、有機酸又はその塩、次亜リン酸塩又はホウ素化合物、及びアセチレン化合物を含有する無電解ニッケルめっき浴において、Pb、Bi、Tl、及びCdのいずれの金属イオンも含まず、かつ以下の(1)〜(3)のいずれかの特徴を有するめっき浴、及びそれを用いためっき方法。(1)更にイオウ系化合物を含有するめっき浴。(2)前記有機酸又はその塩が(A)アミノ酸又はその塩とヒドロキシカルボン酸又はその塩、又は(B)ヒドロキシモノカルボン酸又はその塩とヒドロキシポリカルボン酸又はその塩を含有するめっき浴。(3)亜リン酸又はその塩を含有するめっき浴。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

水溶性ニッケル塩、有機酸又はその塩、次亜リン酸塩又はホウ素化合物、及びアセチレン化合物を含有する無電解ニッケルめっき浴において、更にイオウ系化合物を含有し、且つPb、Bi、Tl、及びCdのいずれの金属イオンも含有しないことを特徴とする無電解ニッケルめっき浴。

IPC (2件)：

C23C18/34 , C23C18/36

FI (2件)：

C23C18/34 , C23C18/36

Fターム (9件)：

4K022AA42 , 4K022BA14 , 4K022DA01 , 4K022DB01 , 4K022DB02 , 4K022DB03 , 4K022DB04 , 4K022DB07 , 4K022DB08

引用特許：

出願人引用 (1件)

特表昭62-502972号公報

審査官引用 (14件)

特公昭53-003326
無電解メッキ液及びそれを使用するメッキ方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-099711 出願人：ディップソール株式会社
特表昭62-502972

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