特許
J-GLOBAL ID：200903086611812563
石英ガラス治具及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石原 詔二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-224032
公開番号（公開出願番号）：特開2004-059412
出願日： 2002年07月31日
公開日（公表日）： 2004年02月26日
要約：
【課題】半導体工業界で使用される石英ガラス治具に対して、低コストで簡便かつ確実に、表層クリーン度を向上させることができる製造方法及び表層クリーン度の向上した石英ガラス治具を提供する。【解決手段】半導体工業用に使用される石英ガラス治具であって、該石英ガラス治具の表面から少なくとも100μmの深さまでの、Li、Na、Mg、K、Ca、Fe、Cr、Ni、Cuの総平均濃度を1.0ppm以下とした。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
半導体工業用に使用される石英ガラス治具であって、該石英ガラス治具の表面から少なくとも100μmの深さまでの、Li、Na、Mg、K、Ca、Fe、Cr、Ni、Cuの総平均濃度が1.0ppm以下であることを特徴とする石英ガラス治具。
IPC (1件)：
FI (3件)：
C03B20/00 K
, C03B20/00 E
, C03B20/00 F
