特許
J-GLOBAL ID：200903086723117299
複合磁気ヘッドおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-341528
公開番号（公開出願番号）：特開平11-175914
出願日： 1997年12月11日
公開日（公表日）： 1999年07月02日
要約：
【要約】【課題】 上部磁気コアの記録ギャップ付近の両側面に生じるイオンミリング加工による磁性再付着層を大幅に低減し、オーバーライト特性を改善した複合磁気ヘッドを得ること。【解決手段】 上部磁気コアのメッキ用下地膜を飽和磁束密度の高い材料を適用し、0.3〜1μmの膜厚にすると共に、フィールドエッチング後にメッキ用下地膜をイオンミリイング法で除去することにより、磁性再付着層を最小限に抑制することが可能となる。
請求項（抜粋）：
下部シールドと下部磁気コアとの間に絶縁層を介して磁気抵抗効果素子を配置した磁気抵抗効果型再生ヘッドと、前記下部磁気コア、記録ギャップ、上部磁気コア、コイルおよび磁気ギャップからなる誘導型記録ヘッドとを有する複合型磁気ヘッドにおいて、前記上部磁気コアはメッキ用下地膜とメッキ磁性膜の積層された構成であり、前記記録ギャップを設ける先端部の側面には少なくとも前記メッキ用下地膜の組成を含む磁性再付着層がトラック幅に対して低い割合であることを特徴とする複合型磁気ヘッド。
FI (2件)：
G11B 5/31 C
, G11B 5/31 K
