特許
J-GLOBAL ID:200903086763435692

型を形成しマイクロデバイスを成形する方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 谷 義一 ,  阿部 和夫
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-521790
公開番号(公開出願番号):特表2005-532920
出願日: 2003年07月11日
公開日(公表日): 2005年11月04日
要約:
ミクロンまたはサブミクロンサイズの複数のフィーチャを含むデバイスを形成する方法を提供する。複数のフィーチャを画定する表面輪郭を有するマスタを提供する。マスタの表面輪郭を少なくとも1層の材料層でコーティングしてシェルを形成する。シェルからマスタを除去してシェルに表面輪郭のネガ像を形成する。シェルのネガ像に材料、例えばポリカーボネート、ポリアクリルまたはポリスチレンを充てんして、マスタと実質的に同じフィーチャを有するデバイスを形成する。ネガ像には、射出成形、圧縮成形、エンボス加工または適合する他の技法を使用して充てんを実施することができる。
請求項(抜粋):
マイクロフィーチャのアレイを含むマイクロデバイス用の型を形成する方法であって、 表面輪郭を有するマスタを用意するステップ、 厚さ約0.01〜0.2インチ(約0.25〜5.1mm)の材料層で前記表面輪郭を覆うステップ、および 前記材料層から前記マスタを除去して前記材料層に前記マスタのネガ像を形成するステップ を含むことを特徴とする方法。
IPC (2件):
B81C5/00 ,  B29C33/38
FI (2件):
B81C5/00 ,  B29C33/38
Fターム (9件):
4F202AJ02 ,  4F202CA11 ,  4F202CB01 ,  4F202CD04 ,  4F202CD05 ,  4F202CD06 ,  4F202CD23 ,  4F202CD24 ,  4F202CD28
引用特許:
出願人引用 (17件)
  • 米国特許第5498392号(Wilding他)
  • 米国特許第5304487号(Wilding他)
  • 米国特許第5885470号(Parce他)
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審査官引用 (10件)
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