CVDチャンバへ液体を供給する装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐藤一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-340823
公開番号（公開出願番号）：特開2001-247969
出願日： 2000年11月08日
公開日（公表日）： 2001年09月14日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】噴射段階の後における液体状態の前駆体もしくは溶媒中に溶解した前駆体の最適な気化を可能とするとともに、内部での凝縮作用を防止すること。【解決手段】CVD装置への液体供給装置は、液体前駆体24若しくは溶媒に溶解した前駆体を供給するための注入口20を有する少なくとも一つのインジェクタ18が設けられた注入ヘッド12を備えている。ベクトルガス噴射回路は液体の噴射と同時に作動するようにされ、ベクトルガスは空間124内において加熱された後にインジェクタの近傍に向けられる。各インジェクタ18は、水または冷却液の流れによって個別に冷却される。蒸発チャンバ16は、前駆体の液体/蒸気の状態変化を達成するべく設計された加熱抵抗と、前駆体の液滴および蒸気によっておおわれる距離がインジェクタ18のノズルと出口チューブとの間の直線距離より大きくなるように配設された偏向手段とを備える。

請求項（抜粋）：

CVD装置または化学蒸着反応用のリアクタへ液体を供給するための装置であって、液体の前駆体(24)若しくは溶媒中に溶解した前駆体を供給するための注入口(20)を有する少なくとも一つのインジェクタ(18)または噴射ノズルが設けられた注入ヘッド(12)と、前駆体(24)の所定量の液滴、または連続した若しくはパルス状のエアロゾル流を蒸発チャンバ(16)内へ周期的に噴射する制御回路(26)と、蒸発チャンバ(16)内にベクトルガスを噴射するための噴射手段(74、72、68)と、液体の前駆体(24)または溶媒および前駆体の溶液の液体/蒸気状態の変化を達成するために蒸発チャンバ(16)を加熱するように設計された加熱手段(50)と、噴射されて蒸気化された前駆体をCVD装置のリアクタに供給するように設計された出口チューブ(14)と、を備えたものにおいて、注入ヘッド(12)が、注入ヘッド(12)の中央部分に設けられ、インジェクタ(18)が挿入される、少なくとも一つのオリフィス(62)と、液体の噴射と同時に作動する、前記インジェクタ(18)の近傍に向けられるベクトルガスの噴射および加熱のための回路と、水若しくは冷却液の流れまたは空気の吹きつけ等により、インジェクタ(18)を冷却する冷却手段と、を備えたことを特徴とする液体供給装置。

Fターム (5件)：

4K030EA01 , 4K030KA25 , 4K030KA26 , 4K030KA46 , 4K030KA47

引用特許：

審査官引用 (6件)

気化器
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-148543 出願人：株式会社荏原製作所
液体原料用CVD装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-100869 出願人：菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社, 三菱電機株式会社
特開平2-145768

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