特許

J-GLOBAL ID：200903086834168666

アーク式イオンプレーティング装置

発明者： 岡崎 尚登 ,  入澤 一彦
出願人/特許権者： 日新電機株式会社
代理人 (1件)： 山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-067936
公開番号（公開出願番号）：特開2001-254171
出願日： 2000年03月13日
公開日（公表日）： 2001年09月18日
要約：

【要約】【課題】 基材の温度上昇を抑えることができ、しかも基材ホルダを往復直線運動させる場合と違って成膜室を大きくせずに済む装置を提供する。【解決手段】 このアーク式イオンプレーティング装置は、真空弁15〜17を介在させて互いに直列配置された搬入室4、予備加熱室6、成膜室8および搬出室10を備えている。更に、複数の基材36を側面に保持可能な柱状の基材ホルダ34を回転可能に保持する台車30と、台車30を矢印Aに示すように各室を経由して搬送する台車搬送機構28と、成膜室8内で基材ホルダ34を矢印Bのように回転させるホルダ回転機構56と、台車30上の基材ホルダ34の側面に向くように成膜室8の側壁部に設けられた1台以上のアーク式蒸発源60とを備えている。

請求項（抜粋）：

基材に膜形成を行う部屋であって真空排気される成膜室と、この成膜室に隣接されていて当該成膜室に基材を出し入れするための部屋であって真空排気される少なくとも一つの搬送室と、この搬送室と前記成膜室との間および当該搬送室と大気側との間にそれぞれ設けられた真空弁と、複数の基材を側面に保持可能な中空または中実の柱状の基材ホルダをその軸を中心に回転可能に保持している台車と、この台車を基材ホルダと共に大気側と前記成膜室との間を前記搬送室および前記真空弁を経由して搬送する台車搬送機構と、前記成膜室内において前記台車上の基材ホルダを回転させるホルダ回転機構と、前記成膜室に前記台車上の基材ホルダの側面に向くように設けられていて、真空アーク放電によって陰極を溶解させて陰極物質を含むプラズマを生成する1台以上のアーク式蒸発源とを備えることを特徴とするアーク式イオンプレーティング装置。

Fターム (10件)：

4K029AA02 ,  4K029BA60 ,  4K029CA04 ,  4K029CA13 ,  4K029DD06 ,  4K029FA06 ,  4K029JA02 ,  4K029JA03 ,  4K029KA02 ,  4K029KA09

引用特許：

審査官引用 (4件)

• アークイオンプレーティング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-096166   出願人：株式会社神戸製鋼所
• PVD装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-210945   出願人：株式会社神戸製鋼所
• 特開平4-362121
  
• 特開平4-362121