特許

J-GLOBAL ID：200903086894270915

X線マスク用カセット、X線マスク製造装置及び製造方法

発明者： 杉原 真児
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 大胡 典夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-310062
公開番号（公開出願番号）：特開2000-138203
出願日： 1998年10月30日
公開日（公表日）： 2000年05月16日
要約：

【要約】【課題】 X線マスクのX線吸収体加工において、バックエッチング先行プロセスにおけるX線透過膜の破砕によるエッチング装置の汚損を低減し、X線マスク製造の歩留まりを向上すること。【解決手段】 X線吸収体エッチング工程に、X線透過膜を冷却するための気体導入路7を内部に備えたX線マスク用カセット5を用いる。X線透過膜の破砕によるエッチング装置の汚損を低減し、X線マスク製造の歩留まりを向上する事が出来る。

請求項（抜粋）：

マスク支持体と、該マスク支持体に支持されたX線透過膜と、該X線透過膜上に形成されたX線吸収体からなるX線マスクを保持するX線マスク用カセットであって、該X線マスクを固定する保持手段と、該X線透過膜と近接・離間させた位置に配置されるヒートシンク部と、流体を該X線透過膜と該ヒートシンク部の間隙に導入するための導入路を有することを特徴とするX線マスク用カセット。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 ,  G03F 1/16 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

H01L 21/302 J ,  G03F 1/16 A ,  H01L 21/30 503 E ,  H01L 21/30 531 M

Fターム (25件)：

2H095BA10 ,  2H095BB16 ,  2H095BB29 ,  2H095BE12 ,  5F004AA16 ,  5F004BA13 ,  5F004BA14 ,  5F004BA20 ,  5F004BB18 ,  5F004BB20 ,  5F004BB21 ,  5F004BB22 ,  5F004BB25 ,  5F004DA04 ,  5F004DA18 ,  5F004DA26 ,  5F004DB00 ,  5F004DB10 ,  5F004DB26 ,  5F004EA05 ,  5F004EA22 ,  5F004EB07 ,  5F004FA02 ,  5F046AA25 ,  5F046GD15

引用特許：

審査官引用 (2件)

• X線マスクの製造方法及びそれを用いたX線マスクの製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-345164   出願人：キヤノン株式会社
• X線マスク、X線マスクの製造方法およびX線マスクの製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-035131   出願人：三菱電機株式会社