特許
J-GLOBAL ID：200903086995030109

硬化レリーフパターン付き基材の製造方法

発明者：
安西 信裕

安西 信裕 について

, 
藤山 英之

藤山 英之 について

, 
木村 正志

木村 正志 について


出願人/特許権者：
旭化成エレクトロニクス株式会社

旭化成エレクトロニクス株式会社 について


代理人 (3件)： 酒井 正己 ,  加々美 紀雄 ,  小松 純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-040672
公開番号（公開出願番号）：特開2008-203614
出願日： 2007年02月21日
公開日（公表日）： 2008年09月04日
要約：
【課題】硬化レリーフパターンが永久材料として具備すべき実用レベルの力学物性を有し、現像後の硬化レリーフパターン底部に残滓や剥離などのダメージの無いレリーフパターンであるポリオルガノシロキサン硬化レリーフパターン付き基材の製造方法の提供。【解決手段】 金属配線を含む基材上又は金属配線を含まない基材上に、特定の感光性ポリオルガノシロキサン組成物を塗布してポリオルガノシロキサン膜を形成する工程、該ポリオルガノシロキサン膜を露光する露光工程、現像する工程、得られたポリオルガノシロキサン硬化レリーフパターンをアルコール系化合物によって洗浄する工程、基材ごと加熱する工程、からなるポリオルガノシロキサン硬化レリーフパターン付き基材の製造方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
金属配線を含む基材上又は金属配線を含まない基材上に、下記(a)〜(c)の各成分を含む感光性ポリオルガノシロキサン組成物を塗布してポリオルガノシロキサン膜を形成する工程、該ポリオルガノシロキサン膜を露光する露光工程、現像する工程、得られたポリオルガノシロキサン硬化レリーフパターンをアルコール系化合物によって洗浄する工程、基材ごと加熱する工程、を含むポリオルガノシロキサン硬化レリーフパターン付き基材の製造方法。 (a)下記一般式(1)で示される少なくとも1種類のシラノール化合物、下記一般式(2)で示される少なくとも1種のアルコキシシラン化合物、及び触媒を混合し、積極的に水を添加することなく重合させる方法で得られるポリオルガノシロキサン:100質量部
IPC (3件)：
G03F 7/075 ,  G03F 7/027 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F7/075 511 ,  G03F7/027 ,  H01L21/30 502R
Fターム (12件)：
2H025AA13 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC14 ,  2H025BC43 ,  2H025BC78 ,  2H025CA03 ,  2H025CA06 ,  2H025CC06 ,  2H025FA16
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 欧州特許第1196478号公報
審査官引用 (5件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)

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