特許
J-GLOBAL ID：200903087064539594

プラズマ処理装置

発明者：
野沢 俊久

野沢 俊久 について


出願人/特許権者：
株式会社エフオーアイ

株式会社エフオーアイ について


代理人 (1件)： 佐藤 香
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-052270
公開番号（公開出願番号）：特開2002-248345
出願日： 2001年02月27日
公開日（公表日）： 2002年09月03日
要約：
【要約】【課題】 温度調節能力の向上とコイルの保護【解決手段】真空チャンバ3内で被処理物4の保持部5と絶縁体の又は半導体の壁30とがプラズマ処理空間3aを挟んで対向するプラズマ処理装置において、保持部5の温度調節を可能とする第1温度調節手段5d+5gと、壁2の温度調節を可能とする第2温度調節手段71+72+73と、壁2に対しプラズマ処理空間3aの反対側から展着された流路形成部材73とを備え、第2温度調節手段の一部をなす流路72を流路形成部材73に形成し、高周波印加の可能なコイル9を流路72に納める。流路72は、壁やその突出部に形成しても良い。
請求項（抜粋）：
真空チャンバ内で被処理物の保持部と絶縁体の又は半導体の壁とがプラズマ処理空間を挟んで対向するプラズマ処理装置において、前記保持部の温度調節を可能とする第1温度調節手段と、前記壁の温度調節を可能とする第2温度調節手段と、前記壁に対し前記プラズマ処理空間の反対側から展着された流路形成部材とを備え、前記第2温度調節手段の一部をなす流路が前記流路形成部材に形成されており、高周波印加の可能なコイルが前記流路に納められていることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (7件)：
B01J 19/24 ,  B01J 19/00 ,  B01J 19/08 ,  C23C 16/505 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46
FI (7件)：
B01J 19/24 Z ,  B01J 19/00 J ,  B01J 19/08 H ,  C23C 16/505 ,  H01L 21/31 C ,  H05H 1/46 L ,  H01L 21/302 C
Fターム (43件)：
4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075AA45 ,  4G075AA61 ,  4G075AA63 ,  4G075BA01 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075CA03 ,  4G075CA25 ,  4G075CA47 ,  4G075CA65 ,  4G075EA05 ,  4G075EB01 ,  4G075EB42 ,  4G075EC25 ,  4G075EE12 ,  4G075EE24 ,  4G075EE31 ,  4G075FA08 ,  4G075FC11 ,  4G075FC13 ,  4G075FC15 ,  4K030FA01 ,  4K030KA22 ,  4K030LA15 ,  5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BB25 ,  5F004BB32 ,  5F004BC08 ,  5F045AA08 ,  5F045BB08 ,  5F045DP03 ,  5F045EH01 ,  5F045EH02 ,  5F045EH11 ,  5F045EJ01 ,  5F045EJ02 ,  5F045EJ03 ,  5F045EJ05 ,  5F045EJ09 ,  5F045EK01
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • プラズマ処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-273142   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • 誘導プラズマの発生装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-046249   出願人：富士電機株式会社, 作田忠裕
  • プラズマ処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-265354   出願人：株式会社神戸製鋼所

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