特許
J-GLOBAL ID：200903087106828907
機械の汚染を光学的に監視するシステム及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
中島 淳
, 加藤 和詳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-070624
公開番号（公開出願番号）：特開2009-229466
出願日： 2009年03月23日
公開日（公表日）： 2009年10月08日
要約：
【課題】蛍光性の汚染物質マーカーを利用して機械部品の汚染を光学的に監視するシステムを提供する。【解決手段】システムは、汚染物質マーカーが少なくとも1つの蛍光発光周波数を発するように構成された、少なくとも1つの照射周波数を発するように構成されると共に、少なくとも部分的に汚染されると汚染物質マーカーを含む、機械部品を少なくとも部分的に照射するように構成された、照明光源(114)と、少なくとも1つの蛍光発光周波数に反応すると共に、汚染された機械部品から発する少なくとも1つの蛍光発光周波数を検出するように構成された、光検出器(118)と、光検出器と動作連通しており、光検出器から信号を受信するように構成されると共に、光検出器からの信号の関数として機械部品の汚染を推定するように構成された、分析モジュール(120)とを備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
汚染物質マーカーが少なくとも1つの蛍光発光周波数を発するように構成された、少なくとも1つの照射周波数を発するように構成されると共に、少なくとも部分的に汚染されると前記汚染物質マーカーを含む、機械部品を少なくとも部分的に照射するように構成された、照明光源と、
前記少なくとも1つの蛍光発光周波数に反応すると共に、汚染された前記機械部品から発する前記少なくとも1つの蛍光発光周波数を検出するように構成された、光検出器と、
前記光検出器と動作連通しており、前記光検出器から信号を受信するように構成されると共に、前記光検出器からの信号の関数として前記機械部品の汚染を推定するように構成された、分析モジュールと、
を備えることを特徴とする、機械の汚染を光学的に監視するシステム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N21/84 Z
, G03G21/00 510
2G051AA07
, 2G051AB20
, 2G051BA05
, 2G051BA08
, 2G051CA03
, 2G051CB10
, 2G051DA08
, 2G051EA14
, 2G051EA17
, 2G051EA24
, 2G051EB01
, 2G051EB02
, 2H270KA35
, 2H270LD03
, 2H270LD08
, 2H270MC44
, 2H270RA03
, 2H270SA03
, 2H270SB30
, 2H270SC08
, 2H270ZC03
