特許
J-GLOBAL ID：200903087173517428
コンディショナ及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-098160
公開番号（公開出願番号）：特開平10-277919
出願日： 1997年04月01日
公開日（公表日）： 1998年10月20日
要約：
【要約】【課題】ポリッシングマットのコンディショニングを短時間に行うことができ、ダイヤモンド砥粒の脱落を生じるおそれがなく、ポリッシングマットに優れた平坦性を与えることができるコンディショナ及びその製造方法を提供する。【解決手段】ダイヤモンド砥粒層面がコンディショナの回転軸と直交するコンディショナにおいて、各ダイヤモンド砥粒の最突出部が略同一平面上に存在し、ダイヤモンド砥粒層面の縁部がなだらかな曲面又はテーパ面を形成し、該縁部に位置するダイヤモンド砥粒の最突出部が、ダイヤモンド砥粒層面より後退した位置に存在するコンディショナ、及び、縁部がなだらかな曲面又はテーパ面を形成する反転型のダイヤモンド砥粒固定面に、電着により仮固定したダイヤモンド砥粒一層分を金属又は樹脂で埋め込んで固着することによりダイヤモンド砥粒層を形成し、ダイヤモンド砥粒層に台金を接合し、反転型を除去する該コンディショナの製造方法。
請求項（抜粋）：
ダイヤモンド砥粒層面がコンディショナの回転軸と直交するコンディショナにおいて、各ダイヤモンド砥粒の最突出部が略同一平面上に存在し、ダイヤモンド砥粒層面の縁部がなだらかな曲面又はテーパ面を形成し、該縁部に位置するダイヤモンド砥粒の最突出部が、ダイヤモンド砥粒層面における各ダイヤモンド砥粒の最突出部が存在する平面より後退した位置に存在するコンディショナ。
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (11件)
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