特許

J-GLOBAL ID：200903087203556296

酸不安定ペンダント基を持つ多環式ポリマーからなるフォトレジスト組成物

発明者： グッダル、ブライアン・エル ,  ジャヤラマン、サイクマル ,  シック、ロバート・エイ ,  ローデス、ラリー・エフ
出願人/特許権者： ザ ビー.エフ.グッドリッチ カンパニー
代理人 (1件)： 大島 正孝
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-532033
公開番号（公開出願番号）：特表2000-508080
出願日： 1997年03月06日
公開日（公表日）： 2000年06月27日
要約：

【要約】本発明は光酸開始剤およびペンダント酸不安定基を含有する繰返し単位を含有してなる多環式ポリマーを含有する感放射線性フォトレジスト組成物に関する。像形成放射線源に曝露することによって、光酸開始剤はポリマーの極性変化に影響するペンダント酸不安定基を開裂する酸を発生する。ポリマーは像形成源に暴露された領域で水性塩基に可溶性となる。

請求項（抜粋）：

光酸開始剤、任意の溶解抑制剤、および少なくともその1部がペンダント酸不安定基を含有する多環式繰返し単位を持つポリマーを含有してなるフォトレジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/039 601 ,  C08L 45/00 ,  C08L 65/00 ,  H01L 21/027 ,  C08F 32/00 ,  C08G 61/08

FI (6件)：

G03F 7/039 601 ,  C08L 45/00 ,  C08L 65/00 ,  C08F 32/00 ,  C08G 61/08 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

出願人引用 (3件)

• ポジ型放射線レジストとレジストパターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-099967   出願人：富士通株式会社
• レジスト組成物およびその利用
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-063775   出願人：日本ゼオン株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-352621   出願人：ジェイエスアール株式会社

審査官引用 (3件)

• ポジ型放射線レジストとレジストパターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-099967   出願人：富士通株式会社
• レジスト組成物およびその利用
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-063775   出願人：日本ゼオン株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-352621   出願人：ジェイエスアール株式会社