特許
J-GLOBAL ID：200903087261780678
光ファイバ、光ファイバ母材の製造方法、及び光ファイバの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
長谷川 芳樹
, 寺崎 史朗
, 柴田 昌聰
, 石田 悟
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-294836
公開番号（公開出願番号）：特開2007-052458
出願日： 2006年10月30日
公開日（公表日）： 2007年03月01日
要約：
【課題】 線引時の張力制御が容易化されて伝送損失を低減することが可能な光ファイバ、光ファイバ母材の製造方法、及び光ファイバの製造方法を提供する。【解決手段】 コア領域100と、コア領域100よりも屈折率が低くなるようにFが添加されたクラッド領域200のクラッド層201とを備える光ファイバを形成する。そして、最外クラッド層となるクラッド層201の外周を含む外縁部205内において、内側から外側に向かって、Fの添加量が順次減少していくように構成する。このとき、外縁部205の粘性が大きくなるので、光ファイバ内に加わる応力が好適に分散される。これにより、コアへの応力集中が抑制されて線引時の張力制御が容易化され、伝送損失が低減される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
屈折率が純SiO2の屈折率以下のコア領域と、前記コア領域の外周に設けられ、前記コア領域よりも屈折率が低くなるようにフッ素が添加された1層または複数層のクラッド層を有するクラッド領域とを備え、
前記1層または複数層のクラッド層のうちで最も外側に位置する最外クラッド層は、その外周を含み前記外周から7.5μmの厚さを有する外縁部内において、内側から外側にかけて屈折率が順次増加するようにフッ素の添加量が順次減少していくように構成されており、各部における比屈折率差を純SiO2での屈折率を基準として%で表して定義したときに、前記外縁部での比屈折率差の最大値と最小値との差が0.15%以上であり、かつ、前記外周での比屈折率差Δnaが条件
Δna≧-0.35%
を満たすことを特徴とする光ファイバ。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (10件)：
2H150AB10
, 2H150AD02
, 2H150AD03
, 2H150AD14
, 2H150AD17
, 2H150AD20
, 2H150AD22
, 2H150AD32
, 2H150AH27
, 2H150AH50
出願人引用 (1件)
審査官引用 (7件)
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