特許
J-GLOBAL ID：200903087396624455
集束荷電粒子ビーム装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
坂上 正明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-232293
公開番号（公開出願番号）：特開2004-071486
出願日： 2002年08月09日
公開日（公表日）： 2004年03月04日
要約：
【課題】本発明の課題は、電子ビーム露光用マスクにおける貫通構造のパターン欠陥を修正加工する際に、あらゆる方向を取り得るパターン面を無理無く正確に垂直に加工することができる集束イオンビーム装置を提供することにある。【解決手段】本発明の集束荷電粒子ビーム装置は、レンズ光学軸回りのあらゆる方向の断面を垂直に加工することを可能にするため、試料ステージ駆動手段として、X,Y,Z三次元駆動機構の下位に2軸方向に傾斜できるチルト機構を備えるようにした。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
荷電粒子源と、該荷電粒子源から引き出された荷電粒子ビームを集束するための集束レンズ系と、前記荷電粒子ビームをオン/オフするためのブランキング電極とからなる集束荷電粒子ビーム発生部と、前記集束荷電粒子ビームを偏向走査するための偏向電極と、ビーム照射位置と角度を調整するための駆動手段を有する試料ステージと、デポジションまたはアシストエッチング用ガスを吹き付けるガス銃とを備えた集束荷電粒子ビーム装置において、前記試料ステージ駆動手段は、X,Yの2軸方向に傾斜できる機構とX,Y,Z三次元移動を行なう機構から構成され、あらゆる方向への傾斜を可能とすることを特徴とする集束荷電粒子ビーム装置。
IPC (5件)：
H01J37/20
, G03F1/16
, G03F7/20
, H01J37/317
, H01L21/027
H01J37/20 A
, G03F1/16 B
, G03F1/16 G
, G03F7/20 506
, H01J37/317 D
, H01L21/30 541S
, H01L21/30 531M
2H095BA08
, 2H095BD35
, 2H097CA16
, 2H097LA10
, 5C001AA03
, 5C001AA04
, 5C001AA05
, 5C001CC07
, 5C034DD03
, 5F046GD10
, 5F046GD11
, 5F046GD20
, 5F056FA05
, 5F056FA10
