特許
J-GLOBAL ID：200903087466007238

回転塗布膜の形成方法

発明者：
岩崎 治夫

岩崎 治夫 について


出願人/特許権者：
日本電気株式会社

日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 尾身 祐助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-006028
公開番号（公開出願番号）：特開2001-196291
出願日： 2000年01月11日
公開日（公表日）： 2001年07月19日
要約：
【要約】【課題】 有機下層反射防止膜(BARC)の形成時にウエハエッジ部に生じる不要な盛り上がりはフォトレジスト現像後のBARCエッチングによっても完全には除去されずに残される。その結果、ウエハエッジ部の被加工膜がエッチングされずに残り、フォトリソグラフィ工程が繰り返されるにつれて累積し、搬送工程やレジスト膜の剥離・洗浄工程において剥離して製造ラインの汚染源となる。【解決手段】 ウエハ2上にBARC液を回転塗布してBARC4を形成した後、ウエハを回転しつつウエハエッジ部に有機溶剤を滴下してウエハエッジ部のBARC4を除去し(a)、ウエハ回転により有機溶剤を振り切る。この時ウエハエッジ部BARC4は表面張力により盛り上がる(b)。ウエハを有機溶剤振り切り時より高速に回転してBARC盛り上がり4aを均す(c)。ウエハエッジ部に有機溶剤を再度滴下して(d)、ウエハエッジ部のBARC4を除去する(e)。
請求項（抜粋）：
(1)ウエハ上に回転塗布膜形成用材料を滴下する工程と、(2)ウエハを回転させることにより滴下された回転塗布膜形成材料を引き延ばして回転塗布膜を形成する工程と、(3)ウエハを回転しつつウエハエッジ部に溶剤を滴下してウエハエッジ部の前記回転塗付膜を除去する工程と、(4)ウエハの回転によりウエハ上に残る上記溶剤を振り切る工程と、(5)ウエハを回転しつつウエハエッジ部に再度溶剤を滴下してウエハエッジ部の前記回転塗付膜を除去する工程と、を備えることを特徴とする回転塗付膜の形成方法。
FI (2件)：
H01L 21/30 577 ,  H01L 21/30 564 C
Fターム (3件)：
5F046JA13 ,  5F046JA15 ,  5F046PA07
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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