特許
J-GLOBAL ID：200903087488049082

アクティブマトリクス基板、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器

発明者：
松枝 洋二郎

松枝 洋二郎 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 上柳 雅誉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-389671
公開番号（公開出願番号）：特開2003-186420
出願日： 2001年12月21日
公開日（公表日）： 2003年07月04日
要約：
【要約】【課題】 電気光学装置の大型化や高精細化を可能にするべく、対向電極の低抵抗化を図ったアクティブマトリクス基板、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器を提供する。【解決手段】 アクティブ素子を有する基体上に、絶縁性材料からなる隔壁150により隔てられた複数の画素電極141と、画素電極141上に配置された発光層140Bを含む積層体と、積層体上に配置された対向電極154と、を備えた電気光学装置である。隔壁150上には、画素電極141とは絶縁された導電部151が配置されている。この導電部151は対向電極154と接続されている。
請求項（抜粋）：
アクティブ素子を有する基体上に、絶縁性材料からなる隔壁により隔てられた複数の画素電極を備えたアクティブマトリクス基板であって、前記隔壁上の前記画素電極とは絶縁された位置に導電材料が配置されていることを特徴とするアクティブマトリクス基板。
IPC (10件)：
G09F 9/30 338 ,  G09F 9/30 365 ,  B41J 2/01 ,  G09F 9/00 342 ,  H01L 29/786 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/22 ,  H05B 33/26
FI (10件)：
G09F 9/30 338 ,  G09F 9/30 365 Z ,  G09F 9/00 342 Z ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/22 Z ,  H05B 33/26 Z ,  B41J 3/04 101 Z ,  H01L 29/78 612 C
Fターム (65件)：
2C056EA24 ,  2C056FB01 ,  3K007AB04 ,  3K007AB05 ,  3K007AB17 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007BB06 ,  3K007BB07 ,  3K007CB01 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  3K007GA04 ,  5C094AA05 ,  5C094AA15 ,  5C094AA21 ,  5C094AA53 ,  5C094BA03 ,  5C094BA27 ,  5C094CA19 ,  5C094CA24 ,  5C094DA09 ,  5C094DA13 ,  5C094DB01 ,  5C094EA04 ,  5C094EB02 ,  5C094FB01 ,  5C094FB16 ,  5C094GB10 ,  5C094HA03 ,  5C094HA08 ,  5F110AA03 ,  5F110BB01 ,  5F110CC02 ,  5F110DD02 ,  5F110DD13 ,  5F110EE03 ,  5F110EE04 ,  5F110EE44 ,  5F110FF02 ,  5F110FF03 ,  5F110FF30 ,  5F110GG02 ,  5F110GG13 ,  5F110GG25 ,  5F110GG45 ,  5F110HJ01 ,  5F110HJ13 ,  5F110NN02 ,  5F110NN71 ,  5F110PP03 ,  5F110PP05 ,  5F110PP06 ,  5F110QQ11 ,  5G435AA16 ,  5G435AA18 ,  5G435BB05 ,  5G435CC09 ,  5G435HH12 ,  5G435HH14 ,  5G435HH16 ,  5G435KK05 ,  5G435LL07 ,  5G435LL08 ,  5G435LL10
引用特許：
審査官引用 (7件)
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