フォトレジストの塗布方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：阪本善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-023458
公開番号（公開出願番号）：特開平8-194316
出願日： 1995年01月18日
公開日（公表日）： 1996年07月30日
要約：

【要約】【目的】均一な膜厚のフォトレジスト膜を塗布する。【構成】スピンナの回転台Mに基板1を載置して液状のフォトレジスト2を滴下し、回転台Mを回転させてフォトレジスト膜2aを形成させる。このようにしてフォトレジスト膜2aを塗布した基板1を減圧チャンバCに搬入し、フォトレジストの溶媒が気化してフォトレジスト膜2aが流動性を失うまで所定の真空度で乾燥させたのち、ポストベークを行なう。ポストベーク中にフォトレジスト膜2aの外周部の盛り上がり部分等が拡散することなく、広い範囲で均一な膜厚を有するフォトレジスト膜を得ることができる。

請求項（抜粋）：

液状のフォトレジストを基板に塗布してフォトレジスト膜を得る工程と、得られたフォトレジスト膜を減圧雰囲気のもとに所定時間乾燥させる工程を有するフォトレジストの塗布方法。

IPC (2件)：

G03F 7/16 501 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開平3-272130
特開平1-130525
特開昭64-015926

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