特許
J-GLOBAL ID:200903087532906460

パターンの位置合わせ方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山川 政樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-248543
公開番号(公開出願番号):特開2001-074414
出願日: 1999年09月02日
公開日(公表日): 2001年03月23日
要約:
【要約】【課題】 位置決めマークとなり得るようなパターンが存在しない場合でも、検査ワークの局所的な歪みを吸収しつつ位置合わせを行う。【解決手段】 マスタパターン中に分割領域を設定し、パターンと直交する仮想のラインを第2の位置決めマークとして設定することを分割領域毎に行う。マスタパターンの分割領域に対応する被測定パターンの分割領域を抽出して、第2の位置決めマークに対応する位置を中心とする所定の範囲についてマスタパターンとの相関値を算出する。最も相関値が高い位置を被測定パターンの第2の位置決めマークと見なし、被測定パターンとマスタパターンの互いの第2の位置決めマークの位置を合わせることにより、マスタパターンと被測定パターンの位置合わせを分割領域毎に行う(ステップ109)。
請求項(抜粋):
基準となるマスタパターンの画像とカメラで撮像した被測定パターンの画像とを比較することにより被測定パターンを検査するパターン検査方法において、マスタパターンと被測定パターンの位置合わせを行う位置合わせ方法であって、被測定パターンとマスタパターンの全領域について互いの第1の位置決めマークの位置を合わせることによりマスタパターンと被測定パターンの全体の位置合わせを行った後に、マスタパターン中に複数の分割領域を設定し、パターンと直交する少なくとも4本の仮想のラインを第2の位置決めマークとして設定することを分割領域毎に行い、マスタパターンの分割領域に対応する被測定パターンの分割領域を抽出して、前記第2の位置決めマークに対応する位置を中心とする所定の範囲についてマスタパターンとの相関値を算出し、最も相関値が高いピーク位置を被測定パターンの第2の位置決めマークと見なし、被測定パターンとマスタパターンの互いの第2の位置決めマークの位置を合わせることにより、マスタパターンと被測定パターンの位置合わせを分割領域毎に行うことを特徴とするパターンの位置合わせ方法。
IPC (3件):
G01B 11/00 ,  G06T 7/00 ,  H05K 3/00
FI (4件):
G01B 11/00 H ,  H05K 3/00 V ,  G06F 15/62 405 C ,  G06F 15/70 455 A
Fターム (42件):
2F065AA03 ,  2F065AA56 ,  2F065BB13 ,  2F065BB27 ,  2F065CC01 ,  2F065CC02 ,  2F065DD11 ,  2F065DD19 ,  2F065EE00 ,  2F065FF04 ,  2F065FF61 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ25 ,  2F065MM03 ,  2F065QQ05 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ29 ,  2F065QQ31 ,  2F065QQ39 ,  2F065QQ41 ,  2F065QQ42 ,  2F065RR10 ,  2F065SS13 ,  2F065TT02 ,  5B057AA11 ,  5B057BA30 ,  5B057CC03 ,  5B057DA03 ,  5B057DA07 ,  5B057DA08 ,  5B057DC16 ,  5L096BA03 ,  5L096CA02 ,  5L096EA17 ,  5L096FA06 ,  5L096FA32 ,  5L096FA69 ,  5L096FA76 ,  5L096GA19 ,  5L096GA51 ,  5L096HA08
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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