特許

J-GLOBAL ID：200903087711211660

基板の洗浄方法および洗浄装置

発明者： 垣貫 剛広 ,  富松 伸二 ,  鈴木 哲男 ,  後藤 哲哉
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-145852
公開番号（公開出願番号）：特開平11-333394
出願日： 1998年05月27日
公開日（公表日）： 1999年12月07日
要約：

【要約】【課題】基板上にある異物を効果的に除去する基板の洗浄方法および洗浄装置を提供する。【解決手段】発生する全紫外光のうち、90%以上が170〜180nmの波長である紫外線照射装置を用いて、基板に該紫外光を一定時間照射し、その後、該基板をアルカリ洗浄液を用いて洗浄することを特徴とする基板の洗浄方法。

請求項（抜粋）：

発生する全紫外光のうち、90%以上が170〜180nmの波長である紫外線照射装置を用いて、基板に該紫外光を一定時間照射し、その後、該基板をアルカリ洗浄液を用いて洗浄することを特徴とする基板の洗浄方法。

IPC (8件)：

B08B 7/00 ,  B08B 3/08 ,  B08B 7/04 ,  B08B 11/04 ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/1335 505

FI (8件)：

B08B 7/00 ,  B08B 3/08 Z ,  B08B 7/04 A ,  B08B 11/04 ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/1335 505

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 光重合性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-239317   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 半導体基板のオゾン洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-226677   出願人：三菱瓦斯化学株式会社
• 電子部品部材類の洗浄方法及び洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-237294   出願人：オルガノ株式会社, 株式会社フロンテック
• 基板の洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-216035   出願人：島田理化工業株式会社