特許

J-GLOBAL ID：200903087745322003

粒子線照射装置

発明者： 丸山 昭彦
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (5件)： 曾我 道照 ,  曾我 道治 ,  古川 秀利 ,  鈴木 憲七 ,  梶並 順
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-218626
公開番号（公開出願番号）：特開2006-034582
出願日： 2004年07月27日
公開日（公表日）： 2006年02月09日
要約：

【課題】装置を低コストに抑え、かつ、レンジシフタ駆動音の低減を図ることが可能な粒子線照射装置を得る。【解決手段】荷電粒子ビーム2を偏向させて、被照射体6の内部の照射領域7での平面方向の位置を制御する偏向電磁石1a,1bが設けられている。また、偏向された荷電粒子ビーム2を通過させることにより、被照射体6の内部の照射領域7での深さ方向の位置を制御する階段状に構成された階段状レンジシフタ3が設けられている。駆動装置により階段状レンジシフタ3をA方向に移動させることにより、レンジシフタの厚さの調整を行われ、当該厚さに基づいて、被照射体6の内部の照射領域7での深さ方向の位置が決定される。また、荷電粒子ビーム2の照射位置が正しく制御されているかを確認するための位置モニタ4および線量モニタ5が設けられている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被照射体に荷電粒子ビームを照射させるための粒子線照射装置であって、 荷電粒子ビームを偏向させて、前記被照射体の内部での平面方向の位置を制御するビーム位置変更手段と、 偏向された前記荷電粒子ビームを通過させることにより、前記被照射体の内部での深さ方向の位置を制御する階段状に構成されたレンジシフタと、 前記レンジシフタの各段と前記被照射体との間の相対位置を変化させるための駆動手段と を備えたことを特徴とする粒子線照射装置。

IPC (5件)：

A61N 5/10 ,  G21K 1/093 ,  G21K 3/00 ,  G21K 5/00 ,  G21K 5/04

FI (9件)：

A61N5/10 N ,  A61N5/10 M ,  A61N5/10 T ,  G21K1/093 D ,  G21K3/00 W ,  G21K3/00 Y ,  G21K5/00 R ,  G21K5/04 A ,  G21K5/04 C

Fターム (9件)：

4C082AA01 ,  4C082AC05 ,  4C082AE02 ,  4C082AG03 ,  4C082AG42 ,  4C082AJ02 ,  4C082AJ16 ,  4C082AL06 ,  4C082AP11

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 粒子線照射方法及び粒子線照射装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-026564   出願人：株式会社東芝
• 荷電粒子線照射装置、荷電粒子線回転照射装置、および荷電粒子線照射方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-287003   出願人：三菱電機株式会社

審査官引用 (3件)

• 荷電粒子ビーム装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-291460   出願人：株式会社日立製作所
• X線CT装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-143661   出願人：株式会社東芝
• 陽子療法を実施する装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2001-505983   出願人：パウル・シェラー・インスティトゥート