特許

J-GLOBAL ID：200903087749400963

酸化亜鉛薄膜の形成方法

発明者： 須崎 嘉文 ,  鹿間 共一 ,  鯉沼 秀臣 ,  田中 治 ,  梶谷 孝啓 ,  丹下 善弘 ,  松田 ▲ひで▼明
出願人/特許権者： 大倉工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-080758
公開番号（公開出願番号）：特開2000-273636
出願日： 1999年03月25日
公開日（公表日）： 2000年10月03日
要約：

【要約】【課題】種々の基材に大気中で均質かつ高品質な酸化亜鉛薄膜を所望な厚みに簡便に、しかも短時間に堆積することができる酸化亜鉛薄膜の形成方法を提供すること。【解決手段】不活性ガスをメインガスとして発生させた大気圧グロー放電プラズマに、酸素を含有する化合物を配位子とする亜鉛錯体をガス状で供給して、基材上に酸化亜鉛薄膜を堆積することを特徴とする酸化亜鉛薄膜の形成方法。

請求項（抜粋）：

不活性ガスをメインガスとして発生させた大気圧グロー放電プラズマに、酸素を含有する化合物を配位子とする亜鉛錯体をガス状で供給して、基材上に酸化亜鉛薄膜を堆積することを特徴とする酸化亜鉛薄膜の形成方法。

IPC (4件)：

C23C 16/40 ,  C23C 16/505 ,  C23C 26/00 ,  H01L 21/31

FI (4件)：

C23C 16/40 ,  C23C 16/50 B ,  C23C 26/00 D ,  H01L 21/31 C

Fターム (26件)：

4K030AA11 ,  4K030AA16 ,  4K030BA21 ,  4K030BA47 ,  4K030CA02 ,  4K030CA06 ,  4K030CA07 ,  4K030EA01 ,  4K030FA03 ,  4K030JA09 ,  4K030KA30 ,  4K044AA01 ,  4K044AA12 ,  4K044AA16 ,  4K044AB02 ,  4K044BA12 ,  4K044BB01 ,  4K044CA14 ,  5F045AA08 ,  5F045AB31 ,  5F045AC07 ,  5F045AC11 ,  5F045AC16 ,  5F045AC17 ,  5F045BB01 ,  5F045BB17

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 薄膜の製造方法とその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-039006   出願人：新技術事業団
• 特開平1-194208
  
• フッ化物薄膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-181364   出願人：山村硝子株式会社
• 特開平1-194208