特許
J-GLOBAL ID:200903087771876521
ポジ型感光性樹脂組成物及び半導体装置
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-048388
公開番号(公開出願番号):特開2003-248315
出願日: 2002年02月25日
公開日(公表日): 2003年09月05日
要約:
【要約】【課題】 高感度かつ高解像度であり、現像後の未露光部の膜減り量が少ないことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物及び半導体装置を提供すること。【解決手段】 一般式(1)で示されるポリアミド樹脂(A)、光により酸を発生する化合物(B)、酸の存在下で更に酸を発生させる化合物(C)及び溶剤(D)からなることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。【化1】
請求項(抜粋):
一般式(1)で示されるポリアミド樹脂(A)、光により酸を発生する化合物(B)、酸の存在下で更に酸を発生させる化合物(C)及び溶剤(D)からなることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。【化1】
IPC (3件):
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, H01L 21/027
FI (3件):
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, H01L 21/30 502 R
Fターム (14件):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB25
, 2H025CB41
, 2H025CC20
, 2H025FA17
引用特許: