特許

J-GLOBAL ID：200903087785732239

フォトマスク・レイアウトにサブレゾルーション・アシスト・フィーチャを組み込む方法

発明者： ラース・ダブリュ・リーブマン ,  スコット・エム・マンスフィールド
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
代理人 (1件)： 坂口 博 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-189032
公開番号（公開出願番号）：特開2002-055434
出願日： 2001年06月22日
公開日（公表日）： 2002年02月20日
要約：

【要約】【課題】 電気回路の像を形成するためのフォトマスク・レイアウトを作成する方法を提供すること。【解決手段】 この方法は、フォトマスク・レイアウト中にサブレゾルーション・アシスト・フィーチャを組み込むステップを含み、このステップは、(1)像向上を受ける主電気回路の選択ディテールを、主電気回路の全体性能から見た主電気回路の選択ディテールの像向上の所定の重要性の順序に基づいて分類するステップ、(2)サブレゾルーション・アシスト・フィーチャに関連した主電気回路の選択ディテールの所定の重要性の順序に基づいて、主電気回路の選択ディテールに関連したサブレゾルーション・アシスト・フィーチャの優先順位を確立するステップ、および(3)確立されたサブレゾルーション・フィーチャの優先順位に基づいて、フォトマスク・レイアウト中にサブレゾルーション・アシスト・フィーチャを組み込むステップによって実行される。

請求項（抜粋）：

電気回路の像を形成するためのフォトマスク・レイアウトを作成する方法であって、フォトマスク・レイアウト中に主電気回路を作成するステップと、前記主電気回路の選択されたディテールに対するサブレゾルーション・アシスト・フィーチャを前記フォトマスク・レイアウト中に作成するステップを含み、前記サブレゾルーション・アシスト・フィーチャ作成ステップが、(a)像向上を受ける前記主電気回路の選択ディテールを、前記主電気回路の全体性能から見た前記主電気回路の前記選択ディテールの像向上の所定の重要性の順序に基づいて分類するステップと、(b)前記サブレゾルーション・アシスト・フィーチャに関連した前記主電気回路の前記選択ディテールの前記所定の重要性の順序に基づいて、前記主電気回路の前記選択ディテールに関連したサブレゾルーション・アシスト・フィーチャの優先順位を確立するステップと、(c)前記サブレゾルーション・フィーチャの前記確立された優先順位に基づいて、前記フォトマスク・レイアウト中にサブレゾルーション・アシスト・フィーチャを組み込むステップと、によって実行される方法。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/82

FI (3件)：

G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/82 W

Fターム (4件)：

2H095BB01 ,  5F064EE14 ,  5F064EE15 ,  5F064EE19

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 露光用マスクパターンの補助パターン自動発生方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-110797   出願人：日本電気株式会社
• 改善された光学的近接補正システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-086393   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション