基板をエッチングするためのパッドスタック

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：矢野敏雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-277291
公開番号（公開出願番号）：特開平11-168201
出願日： 1998年09月30日
公開日（公表日）： 1999年06月22日
要約：

【要約】【課題】酸化物に対して選択的に除去することができるハードマスク層をパッドスタックに設ける。【解決手段】ハードエッチングマスクは、ここにトレンチを形成するために基板の反応性イオンエッチングのためのりんドーピングされたけい酸ガラスを含んでいる。

請求項（抜粋）：

深いトレンチを形成するために反応性イオンエッチングのためのエッチングマスクとして使われるPSGハードマスク層を含むことを特徴とする、基板をエッチングするためのパッドスタック。

IPC (4件)：

H01L 27/108 , H01L 21/8242 , H01L 21/3065 , H01L 21/316

FI (3件)：

H01L 27/10 625 A , H01L 21/316 H , H01L 21/302 J

引用特許：

審査官引用 (12件)

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