特許

J-GLOBAL ID：200903087867981520

受動熱補償を伴う光学構造及びマイクロリソグラフィの投影露光装置

発明者： クリスティアン・ヴァグナー ,  ミヒャエル・トルンツ ,  ラルフ・ヒルガース
出願人/特許権者： カール・ツアイス・スティフツング
代理人 (1件)： 山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-035932
公開番号（公開出願番号）：特開平11-287936
出願日： 1999年02月15日
公開日（公表日）： 1999年10月19日
要約：

【要約】【課題】 レンズなどの光学素子が非対称形状の光源から非対称に熱を加えられたときにその熱の分布を対称にする。【解決手段】 光源からレンズに加えられる熱をレンズ外に導く熱放散手段を熱が強いところでは早く熱を外部に導く良熱伝導体のものを使用し、熱がそれほど加わらないところでは熱伝導度の低いものを使用した。

請求項（抜粋）：

光源(61)と、ホルダ(2)の中に固定されている光学要素(671,672,691;1)とを有し、光源(61)は光を放射し、光学素子(671,672,691;1)の形状に対応した対称形状とは異なるようにその放射が熱を光学素子(671,672,691;1)に供給する光学構造において、光学素子(1)とホルダ(2)との間に、光学素子(1)の形状とは一致しないが、対称的に取り付けられ、光学素子(1)における温度分布を少なくとも部分的に均質化する結合構造(21〜28)が設けられていることを特徴とする光学構造。

IPC (3件)：

G02B 7/00 ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G02B 7/00 ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/30 515 D

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 投影露光装置及びデバイスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-090302   出願人：キヤノン株式会社
• 温度補償光学アセンブリ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-067213   出願人：イーストマン・コダツク・カンパニー
• 特開昭62-255909
  
• 特開平3-196781
  
• 保持機構
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-053290   出願人：日本精工株式会社
• 特開昭57-208519