特許
J-GLOBAL ID：200903087922048383
均一化レーザビーム照射装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
高橋 敬四郎
, 来山 幹雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-254016
公開番号（公開出願番号）：特開2004-095792
出願日： 2002年08月30日
公開日（公表日）： 2004年03月25日
要約：
【課題】複数のレーザビームを重ね合わせた時の干渉に起因する強度のうねりを低減させることが可能な均一化レーザビーム照射装置を提供する。【解決手段】レーザ光源から出射されたレーザビームが第1のレンズアレイに入射する。第1のレンズアレイは、レーザビームの進行方向と交差する第1の方向に配列した複数のレンズによって、入射したレーザビームを第1の方向に関して複数のビームに分割する。第1のレンズアレイの、相互に隣り合うレンズを通過した2本のレーザビームの偏光状態が相互に異なるように、第1の偏光状態制御手段が、レーザビームの偏光状態を変える。コンデンサレンズが、第1のレンズアレイによって分割された複数のビームを、被照射面上で重ね合わせる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
レーザビームを出射するレーザ光源と、
前記レーザ光源から出射されたレーザビームが入射し、該レーザビームの進行方向と交差する第1の方向に配列した複数のレンズによって、入射したレーザビームを第1の方向に関して複数のビームに分割する第1のレンズアレイと、
前記第1のレンズアレイの、相互に隣り合うレンズを通過した2本のレーザビームの偏光状態が相互に異なるように、レーザビームの偏光状態を変える第1の偏光状態制御手段と、
前記第1のレンズアレイによって分割された複数のビームを、被照射面上で重ね合わせる重ね合わせ光学系と
を有する均一化レーザビーム照射装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/268 J
, G02B27/28 Z
2H099AA17
, 2H099BA09
, 2H099CA08
