レーザビーム均一照射光学系

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：青山葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-091486
公開番号（公開出願番号）：特開2003-287706
出願日： 2002年03月28日
公開日（公表日）： 2003年10月10日
要約：

【要約】【課題】被照射物のレーザ処理に際して照射面における照射レーザビームの均質性を改善したレーザビーム均一照射用の光学系に関して、分割ビーム間の干渉よって小視野ビームに生じる強度分布の変動を防止する。【解決手段】レーザ光源からのレーザビームをビーム断面において二次元的に分割するレーザビーム分割手段と、分割ビームを照射面上で重ね合せて照射する重ね合せ照射手段と、から、成り、レーザビーム分割手段が、分割ビームの幅をレーザビーム断面における断面方向の空間的可干渉距離の1/2倍以上とし、レーザビーム分割手段には、直交配置した2つのシリンドリカルレンズアレイを用いて、遅延板又は旋光板を用いて、隣合う分割ビーム間の干渉を軽減又は防止して、均一化を図る。

請求項（抜粋）：

レーザ光源からのレーザビームをビーム断面において二次元的に分割するレーザビーム分割手段と、分割ビームを被照射物の照射面上で重ね合せて照射する重ね合せ照射手段と、から、成るレーザビーム均一照射光学系であって、上記のレーザビーム分割手段が、上記の分割ビーム幅をレーザビーム断面における断面方向の空間的可干渉距離の1/2倍以上としたことを特徴とするレーザビーム均一照射光学系。

IPC (4件)：

G02B 27/00 , G02B 27/18 , H01L 21/20 , H01L 21/268

FI (4件)：

G02B 27/18 Z , H01L 21/20 , H01L 21/268 J , G02B 27/00 V

Fターム (6件)：

5F052AA02 , 5F052BA12 , 5F052BB07 , 5F052CA07 , 5F052DA02 , 5F052DB01

引用特許：

審査官引用 (14件)

特開平4-328718
照明光学系
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-239789 出願人：株式会社ニコン
特開平3-016114

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