基板洗浄装置および基板洗浄方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：佐藤一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-089769
公開番号（公開出願番号）：特開2001-284306
出願日： 2000年03月28日
公開日（公表日）： 2001年10月12日
要約：

【要約】【課題】基板へのダメージが無く、かつ、パーティクル除去率が高い超音波洗浄を可能にする基板洗浄装置および基板洗浄方法を提供する。【解決手段】純水溶存ガス濃度制御部11と、薬液ミキシング部13と、基板洗浄漕27と、超音波振動子21と、超音波制御部15とを備える基板洗浄装置1において、温度センサ31と温度モニタ33とをさらに備え、基板洗浄漕27中の洗浄液の温度を温度センサ31にて測定し、測定結果に基づいて温度モニタ33が洗浄漕27中の洗浄液の温度変化を算出し、この算出結果と、洗浄液の温度変化と基板Sのダメージとの相関関係に基づいて、超音波振動子21への供給電圧を低下させ、もしくは0にし、または純水溶存ガスの濃度を増加させる。

請求項（抜粋）：

供給される洗浄液により、投入された基板を洗浄する基板洗浄漕と、前記基板洗浄漕に超音波を照射する超音波照射手段と、前記基板洗浄漕中の洗浄液の温度である第1の温度を測定する第1の温度測定手段と、前記第1の温度測定手段の測定結果を受けて前記第1の温度の変化量または変化率を算出し、この算出結果と、前記第1の温度の変化量と前記基板のダメージとの相関関係または前記第1の温度の変化率と前記基板のダメージとの相関関係に基づいて、前記第1の温度の変化を抑制する温度変化制御手段と、を備える基板洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 642 , H01L 21/304 648 , B08B 3/12

FI (3件)：

H01L 21/304 642 E , H01L 21/304 648 G , B08B 3/12 A

Fターム (11件)：

3B201AA03 , 3B201AB01 , 3B201BB04 , 3B201BB85 , 3B201BB92 , 3B201BB93 , 3B201BB96 , 3B201BB98 , 3B201CB01 , 3B201CD42 , 3B201CD43

引用特許：

審査官引用 (4件)

超音波洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-046730 出願人：株式会社芝浦製作所
洗浄方法及び洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-195688 出願人：大見忠弘
超音波洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-215593 出願人：東レ株式会社

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