特許
J-GLOBAL ID：200903088141023691

硬質皮膜被覆摺動部材

発明者：
石川 剛史

石川 剛史 について


出願人/特許権者：
日立ツール株式会社

日立ツール株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-020495
公開番号（公開出願番号）：特開2006-206960
出願日： 2005年01月28日
公開日（公表日）： 2006年08月10日
要約：
【課題】耐摩耗性、潤滑特性に優れ、更に硬質皮膜内の残留圧縮応力が低減させて硬質皮膜の厚膜化を可能にし、過酷な摺動環境下においても部材の摩耗、焼き付き、相手材の攻撃性を低減させることのできる硬質皮膜被覆部材を提供する。【解決手段】硬質皮膜の少なくとも1層は(Cr(100-α)Siα)(N(100-γ-η)BγGη)で示され、0.5≦α≦20、0<γ<45、0≦η≦55を満たし、GはC、O、Sから選択される少なくとも1種以上を有し、岩塩構造型の(200)面にX線回折ピーク強度を有し、半価幅が0.5度以上、2.0度以下であり、少なくともSi及び/又はBの窒化物相、酸化物相、金属相から選択される少なくとも1種以上を有し、該硬質皮膜はSi含有量の濃度変調を有し、該硬質皮膜の膜厚は1μm以上、60μm未満であることを特徴とする硬質皮膜被覆摺動部材である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
硬質皮膜が被覆された硬質皮膜被覆摺動部材において、該硬質皮膜の少なくとも1層は(Cr(100-α)Siα)(N(100-γ-η)BγGη)で示され、但し、α、γ、ηは原子%を表し、金属成分のみの原子%を100及び非金属成分の原子%を100としたとき、0.5≦α≦20、0<γ<45、0≦η≦55を満たし、GはC、O、Sから選択される少なくとも1種以上を有し、該硬質皮膜は岩塩構造型の(200)面にX線回折ピーク強度を有し、該X線回折ピーク強度の半価幅が0.5度以上、2.0度以下であり、少なくともSi及び/又はBの窒化物相、酸化物相、金属相から選択される少なくとも1種以上を有し、該硬質皮膜はSi含有量の濃度変調を有し、該硬質皮膜の膜厚は1μm以上、60μm未満であることを特徴とする硬質皮膜被覆摺動部材。
IPC (2件)：
C23C 14/06 ,  C23C 30/00
FI (2件)：
C23C14/06 K ,  C23C30/00 C
Fターム (18件)：
4K029BA41 ,  4K029BA50 ,  4K029BA58 ,  4K029BA60 ,  4K029BC02 ,  4K029BD04 ,  4K029DB02 ,  4K044AA01 ,  4K044AA02 ,  4K044AB10 ,  4K044BA01 ,  4K044BA02 ,  4K044BA18 ,  4K044BA19 ,  4K044BB02 ,  4K044BB03 ,  4K044BC01 ,  4K044CA13
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (5件)
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