特許
J-GLOBAL ID：200903084828757495

被覆インサート

発明者：
石川 剛史

石川 剛史 について


出願人/特許権者：
日立ツール株式会社

日立ツール株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-092121
公開番号（公開出願番号）：特開2004-298972
出願日： 2003年03月28日
公開日（公表日）： 2004年10月28日
要約：
【課題】Cr系皮膜の欠点である硬度を高めることにより耐摩耗性を改善し、その結果優れた寿命を発揮する被覆インサートを提供することを目的とする。【解決手段】被覆インサートにおいて、該被覆はアーク放電式イオンプレーティング法により被覆された硬質皮膜であり、該硬質皮膜は、(AlxCr1-x-ySiy)(N1-α-β-γBαCβOγ)、但し、x、y、α、β、γは夫々原子比率を示し、0.45<x<0.75、0≦y<0.2、0≦α<0.12、0≦β<0.2、0.01≦γ≦0.25、からなり、X線回折強度I(200)/I(111)の値が4以下からなり、X線光電子分光分析における525eVから535eVの範囲に、少なくともCr、Al及び/又はSiと酸素との結合エネルギーを有し、該インサートの基体は炭化タングステン基超硬合金からなり、Ni及び/又はCoの和が重量%で4≦(Ni+Co)≦20、としたことを特徴とする被覆インサート。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被覆インサートにおいて、該被覆はアーク放電式イオンプレーティング法により被覆された硬質皮膜であり、該硬質皮膜は、(AlxCr1-x-ySiy)(N1-α-β-γBαCβOγ)、但し、x、y、α、β、γは夫々原子比率を示し、0.45<x<0.75、0≦y<0.2、0≦α<0.12、0≦β<0.2、0.01≦γ≦0.25、からなり、X線回折における(111)面の回折強度をI(111)、(200)面の回折強度をI(200)とした時、I(200)/I(111)の値が4以下からなり、X線光電子分光分析における525eVから535eVの範囲に、少なくともCr、Al及び/又はSiと酸素との結合エネルギーを有し、該インサートの基体は炭化タングステン基超硬合金からなり、Ni及び/又はCoの和が重量%で4≦(Ni+Co)≦20、としたことを特徴とする被覆インサート。
IPC (3件)：
B23B27/14 ,  C23C14/06 ,  C23C14/16
FI (3件)：
B23B27/14 A ,  C23C14/06 L ,  C23C14/16 B
Fターム (14件)：
3C046FF03 ,  3C046FF09 ,  3C046FF11 ,  3C046FF13 ,  3C046FF21 ,  4K029AA04 ,  4K029BA43 ,  4K029BA53 ,  4K029BA55 ,  4K029BA58 ,  4K029BC02 ,  4K029BD05 ,  4K029CA03 ,  4K029DD06
引用特許：
審査官引用 (16件)
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