特許
J-GLOBAL ID：200903088178632540

洗浄装置および洗浄方法

発明者：
田寺 孝光

田寺 孝光 について

, 
山本 裕一

山本 裕一 について

, 
安武 健司

安武 健司 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (6件)： 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  野田 久登 ,  酒井 將行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-381165
公開番号（公開出願番号）：特開2005-144227
出願日： 2003年11月11日
公開日（公表日）： 2005年06月09日
要約：
【課題】 被洗浄基板の洗浄面から除去された微粒子が洗浄面に再付着することを抑制して、洗浄能力の向上を図った洗浄装置を提供する。【解決手段】 洗浄装置は、被洗浄基板25の一方の表面に対して、超音波が印加された第1洗浄液を噴射するための超音波ノズル1と、被洗浄基板25の他方の表面に対して、第2洗浄液を噴射するためのジェットノズル11と、超音波ノズル1およびジェットノズル11に対して、被洗浄基板25を相対的に移動させるための基板送り手段とを備える。超音波ノズル1は、第2洗浄液が被洗浄基板25に衝突する第2衝突点72より、被洗浄基板25が移動する矢印61の向きの上流側20mm以上200mm以下に、第1洗浄液が衝突する第1衝突点71が位置するように配置されている。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被洗浄基板の一方の表面に対して、超音波が印加された第1洗浄液を噴射するための超音波ノズルと、 前記被洗浄基板の他方の表面に対して、第2洗浄液を噴射するためのジェットノズルと、 前記超音波ノズルおよび前記ジェットノズルに対して、前記被洗浄基板を相対的に移動させるための基板送り手段と を備え、 前記超音波ノズルは、前記第2洗浄液が前記被洗浄基板に衝突する位置より、前記被洗浄基板が移動する向きの上流側20mm以上200mm以下の位置に、前記第1洗浄液が衝突するように配置された、洗浄装置。
IPC (2件)：
B08B3/02 ,  B08B3/12
FI (2件)：
B08B3/02 C ,  B08B3/12 D
Fターム (8件)：
3B201AA02 ,  3B201AB14 ,  3B201BB24 ,  3B201BB32 ,  3B201BB85 ,  3B201BB90 ,  3B201BB92 ,  3B201CD22
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (5件)
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