特許
J-GLOBAL ID:200903088263473140

高圧ジェット式スピン洗浄装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 松浦 憲三
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-147155
公開番号(公開出願番号):特開平11-333387
出願日: 1998年05月28日
公開日(公表日): 1999年12月07日
要約:
【要約】【課題】ワークにキズを付けることなく短時間で良好にワークを洗浄することができる高圧ジェット式スピン洗浄装置の提供。【解決手段】ノズル42から回転するウェーハWに向けて高圧の洗浄液を霧化させた状態で吹き付ける。これにより、洗浄液がウェーハWに当たる力が強くなり、ウェーハWから汚れが容易に剥離する。また、剥離した汚れは、ウェーハWの回転による遠心力で洗浄液とともにウェーハWの外周に吹き飛ばされ、ウェーハ上から迅速に除去される。
請求項(抜粋):
ワークを回転させながら洗浄液をかけて洗浄する高圧ジェット式スピン洗浄装置において、前記回転するワークに向けて高圧力を加えた洗浄液をノズルから霧化させた状態で吹き付ける噴射手段を備えたことを特徴とする高圧ジェット式スピン洗浄装置。
IPC (2件):
B08B 3/02 ,  H01L 21/304 643
FI (2件):
B08B 3/02 C ,  H01L 21/304 643 A
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 基板の洗浄装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-238949   出願人:旭サナック株式会社
  • 特開昭54-041676
  • 基板処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-266436   出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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