特許
J-GLOBAL ID：200903088282584077
エッチング装置及びエッチング方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
岡本 啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-213805
公開番号（公開出願番号）：特開平10-064884
出願日： 1996年08月13日
公開日（公表日）： 1998年03月06日
要約：
【要約】【課題】 装置の構造が簡単であるとともに、エッチングレート又はエッチング終点を高精度で検出することができるエッチング装置及びエッチング方法を提供する。【解決手段】 エッチング装置のチャンバ内のプラズマにより発生した光のうち、SiO2 膜(処理膜)12の表面で反射された光と、SiO2 膜12と下地11との界面で反射された光との干渉光の強度を検出し、前記干渉光の強度の周期的変動に基づいてエッチングレート又はエッチング終点を検出する。
請求項（抜粋）：
プラズマエッチングにより下地の上の処理膜をエッチングする際にエッチングレート又はエッチング終点を検出するエッチング装置において、プラズマにより発生した光のうち前記処理膜の表面で反射された光と、前記処理膜と前記下地との界面で反射された光との干渉光の強度を検出する光検出部と、前記光検出部の出力の周期的変動を検出してその変動周期に基づいてエッチングレート又はエッチング終点を検出する制御部と、を有することを特徴とするエッチング装置。
IPC (3件)：
H01L 21/3065
, C23F 4/00
, G02F 1/1333 505
H01L 21/302 E
, C23F 4/00 F
, G02F 1/1333 505
