研磨剤

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：廣江武典 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-174476
公開番号（公開出願番号）：特開2000-008025
出願日： 1998年06月22日
公開日（公表日）： 2000年01月11日
要約：

【要約】【課題】優れた研磨性能を有していて、効率的かつ確実に研磨作業を行うことができる研磨剤を提供すること。【解決手段】研磨材料中に、フッ素原子とケイ酸塩とからなる研磨促進材を含有することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

研磨材料中に、フッ素原子とケイ酸塩とからなる研磨促進材を含有することを特徴とする研磨剤。

IPC (2件)：

C09K 3/14 550 , C09K 3/14

FI (3件)：

C09K 3/14 550 E , C09K 3/14 550 D , C09K 3/14 550 Z

引用特許：

審査官引用 (6件)

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