特許

J-GLOBAL ID：200903088462491930

静電吸着装置

発明者： 茂木 弘 ,  大谷 義和 ,  新井 健一 ,  小嶋 伸次 ,  小林 利美
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-282640
公開番号（公開出願番号）：特開平11-111828
出願日： 1997年09月30日
公開日（公表日）： 1999年04月23日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 静電吸着部の絶縁性誘電体層の体積固有抵抗値を下げて静電力を高めると共に、電圧の印加を止めた時の離脱能力の劣化がなく、焼結後の絶縁性誘電体層に微小クラックやポアが残存しない耐電圧特性にも優れた静電吸着装置を提供する。【解決手段】 絶縁性誘電体層2で被覆されている導電体電極1に電圧を印加して、該絶縁性誘電体層2に試料を静電吸着させる静電吸着装置7において、該絶縁性誘電体層の主成分が、単体金属を0.1〜30重量%添加したセラミックスであり、かつ該金属含有セラミックスの20°Cにおける体積固有抵抗値を108 〜1013Ω・cmとし、前記金属元素をMoまたはWとした静電吸着装置。

請求項（抜粋）：

絶縁性誘電体層で被覆されている導電体電極に電圧を印加して、該絶縁性誘電体層に試料を静電吸着させる静電吸着装置において、該絶縁性誘電体層の主成分が、単体金属を0.1〜30重量%添加したセラミックスであり、かつ該金属含有セラミックスの20°Cにおける体積固有抵抗値を108 〜1013Ω・cmとしたことを特徴とする静電吸着装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/15 ,  H02N 13/00

FI (3件)：

H01L 21/68 R ,  B23Q 3/15 D ,  H02N 13/00 D

引用特許：

審査官引用 (4件)

• ステージ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-087270   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 静電吸着保持装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-193018   出願人：信越化学工業株式会社
• 特開平4-003956
  
• 特開平4-003956