特許
J-GLOBAL ID：200903088505033868
インクジェットヘッド及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-048944
公開番号（公開出願番号）：特開平10-244668
出願日： 1997年03月04日
公開日（公表日）： 1998年09月14日
要約：
【要約】【課題】 駆動電極形成時に駆動電極のバリの発生を防止する。【解決手段】 予じめ溝6を設けた圧電セラミック基板1に導電性薄膜2を蒸着,スバッタリングまたはメッキ等により成膜する工程(図1(a))と、導電性薄膜2の上にフォトレジスト4を塗布する工程(図1(b))と、所定のパターンのフォトマスクを介して露光,現像させて隔壁上面が露出するレジストマスク5を形成する工程(図1(c))と、ウエットエッチンクまたはドライエッチングにより導電性薄膜2の露出部分を除去し、駆動電極3を形成する工程(図1(d))と、レジストマスク5を剥離液または酸素プラズマ処理等により剥離する工程(図1(e))とを含んで構成される。
請求項（抜粋）：
予じめ溝を設けた圧電セラミック基板に導電性薄膜を蒸着,スバッタリングまたはメッキ等により成膜する工程と、前記導電性薄膜の上にフォトレジストを塗布する工程と、所定のパターンのフォトマスクを介して露光,現像させて隔壁上面が露出するレジストマスクを形成する工程と、ウエットエッチンクまたはドライエッチングにより前記導電性薄膜の露出部分を除去し、駆動電極を形成する工程と、前記レジストマスクを剥離液または酸素プラズマ処理等により剥離する工程と、を含むことを特徴とするインクジェットヘッド製造方法。
IPC (4件)：
B41J 2/045
, B41J 2/055
, B41J 2/16
, H01L 41/09
B41J 3/04 103 A
, B41J 3/04 103 H
, H01L 41/08 C
