検査用光学系および検査装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：落合稔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-141118
公開番号（公開出願番号）：特開平7-325036
出願日： 1994年05月31日
公開日（公表日）： 1995年12月12日
要約：

【要約】【目的】被写界深度を大きくして試料の観測部分がフォーカスの合う範囲の中に入り易い検査装置を提供することを目的とする。【構成】照射光学系Kにより平行光を試料8に照射し、その透過光または反射光を観測光学系6により集束し、その後方の観測部7で試料8の観測を行うための検査用光学系Kにおいて、観測光学系Kは、テレセントリック光学部6と、テレセントリック光学部6の後像空間焦平面またはその近傍に配設された開口絞り12とを備えていることを特徴とする検査用光学系K。

請求項（抜粋）：

照射光学系により平行光を試料に照射し、その透過光または反射光を観測光学系により集束し、その後方の観測部で前記試料の観測を行うための検査用光学系において、前記観測光学系は、テレセントリック光学部と、当該テレセントリック光学部の後像空間焦平面またはその近傍に配設された開口絞りとを備えていることを特徴とする検査用光学系。

IPC (5件)：

G01N 21/84 , G01B 11/30 , G01N 21/88 , H01L 21/66 , G02B 13/22

引用特許：

出願人引用 (6件)

検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-187450 出願人：芳賀一実, 株式会社レイテックス
特開平4-084705
特開平1-274283

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審査官引用 (9件)

特開平1-274283
検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-187450 出願人：芳賀一実, 株式会社レイテックス
特開平4-084705

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