特許

J-GLOBAL ID：200903088557674870

ステージ装置及び電子ビーム近接露光装置

発明者： 安藤 学 ,  冨田 良幸
出願人/特許権者： 住友重機械工業株式会社
代理人 (3件)： 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗 ,  黒木 義樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-190499
公開番号（公開出願番号）：特開2005-026467
出願日： 2003年07月02日
公開日（公表日）： 2005年01月27日
要約：

【課題】試料の回転方向のズレが大きい場合にも、位置の調整を適切に行うことを可能とするステージ装置及び電子ビーム近接露光装置を提供する。【解決手段】ステージ装置1は、処理対象となるウエハWを保持するためのウエハパレット11及びレールプレート9(試料保持部)と、ウエハWの位置を検出するための位置基準面77a、77bを有するトッププレート7と、試料保持部をトッププレート7に対して所定軸回りに回転させる駆動部75と、を備えている。トッププレート7はレールプレート9を所定軸回りに回転可能に支持している。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

処理対象となる試料を保持するための試料保持部と、 前記試料の位置を検出するための位置基準面を有するステージプレートと、 前記試料保持部を前記ステージプレートに対して所定軸回りに回転させる駆動部と、を備え、 前記ステージプレートは、 前記試料保持部を前記所定軸回りに回転可能に支持することを特徴とするステージ装置。

IPC (4件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  H01J37/20 ,  H01L21/68

FI (5件)：

H01L21/30 541L ,  G03F7/20 521 ,  H01J37/20 A ,  H01J37/20 D ,  H01L21/68 K

Fターム (27件)：

5C001AA01 ,  5C001AA02 ,  5C001AA03 ,  5C001AA06 ,  5C001AA07 ,  5C001CC04 ,  5C001CC06 ,  5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031HA13 ,  5F031HA16 ,  5F031HA53 ,  5F031JA06 ,  5F031JA28 ,  5F031JA32 ,  5F031JA38 ,  5F031KA06 ,  5F031KA07 ,  5F031KA08 ,  5F031MA27 ,  5F031NA07 ,  5F056AA25 ,  5F056CB22 ,  5F056CB25 ,  5F056EA14

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 電子ビーム露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-342229   出願人：株式会社東京精密
• 回転制御方法及び該方法を使用するステージ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-319479   出願人：株式会社ニコン
• 特開昭61-032517
  
• 回転保持装置、位置調節装置、近接露光装置及びマスク保持装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-158572   出願人：住友重機械工業株式会社