光触媒薄膜の製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岩橋文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-317438
公開番号（公開出願番号）：特開2002-119864
出願日： 2000年10月18日
公開日（公表日）： 2002年04月23日
要約：

【要約】【課題】可視光照射に対しても光触媒活性を発現する光触媒薄膜の低温合成法を提供することを目的とする。【解決手段】排気手段6を有する反応チャンバー1内に原料ガスを導入し、反応チャンバー内に設けた基板ホルダー4と電極5との間に電力を供給して原料ガスをプラズマ化し、基板ホルダーに保持した所定温度の基板上に光触媒薄膜を形成する。

請求項（抜粋）：

排気手段を有する反応チャンバー内に原料ガスを導入し、前記反応チャンバー内に設けた基板ホルダーと電極との間に電力を供給して前記原料ガスをプラズマ化し、前記基板ホルダーに保持した所定温度の基板上に酸化チタン薄膜を形成する光触媒薄膜の製造方法であって、前記基板ホルダーを回転させながら前記基板ホルダーと電極との間に前記基板ホルダーに対して所定の傾斜角を持たせて配置した原料ガス供給手段によってチタンを含む化合物のガス、反応ガス及びキャリアガスからなる原料ガスを導入するようにしたことを特徴とする光触媒薄膜の製造方法。

IPC (3件)：

B01J 35/02 , B01J 37/02 301 , C23C 16/40

FI (3件)：

B01J 35/02 J , B01J 37/02 301 M , C23C 16/40

Fターム (29件)：

4G069AA03 , 4G069AA08 , 4G069AA09 , 4G069AA14 , 4G069BA04A , 4G069BA04B , 4G069BA04C , 4G069BA27A , 4G069BA27B , 4G069BA27C , 4G069BA48A , 4G069BC48C , 4G069CA01 , 4G069CA10 , 4G069CA17 , 4G069EA08 , 4G069EC22Y , 4G069FA03 , 4G069FB03 , 4K030AA11 , 4K030AA14 , 4K030AA17 , 4K030BA46 , 4K030CA06 , 4K030EA06 , 4K030FA03 , 4K030GA06 , 4K030JA04 , 4K030LA11

引用特許：

審査官引用 (3件)

大気汚染物質の除去装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-073265 出願人：工業技術院長, 富士電機株式会社
酸化物薄膜の製造方法及びそれに用いる化学蒸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-060331 出願人：松下電器産業株式会社
チタン酸ジルコン酸鉛薄膜の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-121289 出願人：松下電器産業株式会社

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