洗浄剤組成物及び洗浄方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-313536
公開番号（公開出願番号）：特開平9-132800
出願日： 1995年11月07日
公開日（公表日）： 1997年05月20日
要約：

【要約】【課題】アルカリ洗浄剤と同様に粉末、砥粒、金属類の酸化被膜等を除去することができ、しかも溶解力、脱脂力、浸透力等に係る洗浄力に優れ、精密洗浄が要求される分野においても適用することができる洗浄剤を提供するとともに、該洗浄剤の洗浄能力を十分に発揮できる洗浄方法を提供すること。【解決手段】洗浄剤の循環ライン中に組み入れられた洗浄塔内に遊挿状態で収容設置されており胴部通液孔がなく底部にのみ通液孔を有する被洗浄物収納用の縦形容筒に、汚れの付着した被洗浄物を収納した後、該容筒内に(A)無機リン酸類および(B)アミン類を含有してなる水系の洗浄剤組成物を強制流通して、該被洗浄物から汚れを洗浄除去する。

請求項（抜粋）：

(A)無機リン酸類および(B)アミン類を含有してなる水系の洗浄剤組成物。

IPC (6件)：

C11D 7/60 , C11D 7/16 , C11D 7/32 , C11D 7:16 , C11D 7:32 , C11D 7:26

FI (3件)：

C11D 7/60 , C11D 7/16 , C11D 7/32

引用特許：

審査官引用 (10件)

レジスト剥離剤
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-267432 出願人：旭電化工業株式会社
半導体ウエハ洗浄液
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-319628 出願人：三菱マテリアル株式会社
特開昭63-004086

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