特許

J-GLOBAL ID：200903088687582632

ポジ型感光性組成物及びパターン形成方法

発明者： 藤田 明徳 ,  高柳 丘
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (3件)： 廣田 浩一 ,  流 良広 ,  松田 奈緒子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-030306
公開番号（公開出願番号）：特開2008-197222
出願日： 2007年02月09日
公開日（公表日）： 2008年08月28日
要約：

【課題】高感度かつ高解像度であり、後加熱(ポストベーク)による感度への影響が少なく、安価なポジ型感光性組成物及びパターン形成方法の提供。【解決手段】(A)酸の作用により分解する基を有し、分解後、アルカリ水溶液に対する溶解性が増大するノボラック樹脂、及び(B)光の作用により酸を発生させる化合物を少なくとも含んでなり、前記(A)のノボラック樹脂が、フェノール類とアルデヒド化合物とを重縮合させてなり、フェノールの前記フェノール類における含有量が50質量%以上であることを特徴とするポジ型感光性組成物である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)酸の作用により分解する基を有し、分解後、アルカリ水溶液に対する溶解性が増大するノボラック樹脂、及び(B)光の作用により酸を発生させる化合物を少なくとも含んでなり、 前記(A)のノボラック樹脂が、フェノール類とアルデヒド化合物とを重縮合させてなり、フェノールの前記フェノール類における含有量が50質量%以上であることを特徴とするポジ型感光性組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (10件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BF29 ,  2H025BG00 ,  2H025FA12

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特許第3587413号公報
  
• 化学増幅型レジスト組成物及びそれに用いる酸発生剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-031088   出願人：東京応化工業株式会社
• フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-286526   出願人：住友ベークライト株式会社