特許
J-GLOBAL ID：200903079088492928

フォトレジスト組成物

発明者：
有田 靖

有田 靖 について

, 
大西 治

大西 治 について

, 
今村 裕治

今村 裕治 について


出願人/特許権者：
住友ベークライト株式会社

住友ベークライト株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-286526
公開番号（公開出願番号）：特開2003-098669
出願日： 2001年09月20日
公開日（公表日）： 2003年04月04日
要約：
【要約】【課題】 透明性を改良し、高感度および高解像度のフォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】 本発明のフォトレジスト用樹脂組成物は、(a)〜(c)を必須成分とすることを特徴とするフォトレジスト組成物。(a)ノボラック型フェノール樹脂の水酸基の一部または全部をアルコキシアルキル基で保護したフォトレジスト用樹脂であって、前記ノボラック型フェノール樹脂がメタクレゾールを50重量%以上含むフェノ-ル類とアルデヒド類とを酸触媒の存在下で反応して得られるものであるフォトレジスト用樹脂、(b)光の作用により酸を発生させる化合物、及び(c)(a)及び(b)を溶解する有機溶媒。
請求項（抜粋）：
(a)〜(c)を必須成分とすることを特徴とするフォトレジスト組成物。(a)ノボラック型フェノール樹脂の水酸基の一部または全部をアルコキシアルキル基で保護したフォトレジスト用樹脂であって、前記ノボラック型フェノール樹脂がメタクレゾールを50重量%以上含むフェノ-ル類とアルデヒド類とを酸触媒の存在下で反応して得られるものであるフォトレジスト用樹脂、(b)光の作用により酸を発生させる化合物、及び(c)(a)及び(b)を溶解する有機溶媒。
IPC (2件)：
G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (17件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB29 ,  2H025CB41 ,  2H025CB51 ,  2H025CB55 ,  2H025CB56 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17
引用特許：
審査官引用 (7件)
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