特許

J-GLOBAL ID：200903088691071006

静電チャック及びプラズマ処理装置

発明者： 小河原 米一
出願人/特許権者： 日電アネルバ株式会社
代理人 (1件)： 大垣 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-110762
公開番号（公開出願番号）：特開平7-321187
出願日： 1994年05月25日
公開日（公表日）： 1995年12月08日
要約：

【要約】【目的】 被吸着物の吸着・脱離の応答特性、被吸着物とベース部との熱の授受が従来よりそれぞれ優れる静電チャックを提供する。【構成】 被吸着物47を置くための誘電体部分43bと、この誘電体部分43bを支持するためのベース部43aとを具える静電チャック43において、誘電体部分43bを炭化珪素で構成する。また、ベース部43aと誘電体部分43bとの間に両者間の熱伝導を向上させるための中間層を設けても良い。

請求項（抜粋）：

被吸着物を置くための誘電体部分と、該誘電体部分を支持するためのベース部とを具える静電チャックにおいて、誘電体部分を炭化珪素で構成してあることを特徴とする静電チャック。

IPC (4件)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/15 ,  H01L 21/3065 ,  H02N 13/00

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-270320
  
• 静電ウエーハチャック用プレート
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-264001   出願人：日立化成工業株式会社
• 静電チヤツク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-294696   出願人：富士電機株式会社
• 特開平2-270320