特許
J-GLOBAL ID：200903088781156620
固体撮像装置及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
池内 寛幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-122866
公開番号（公開出願番号）：特開平8-316448
出願日： 1995年05月22日
公開日（公表日）： 1996年11月29日
要約：
【要約】【目的】 固体撮像装置に光が斜め入射する場合に、受光部からはずれる光路をとる光を下段の第2マイクロレンズにより、より垂直に近い形に集光し、斜め入射光の集光率の減少を抑制し、感度の高い画像特性に優れた固体撮像装置を提供する。【構成】 遮光膜7に高融点金属、または、その金属シリサイド膜を使用し遮光膜を薄膜化した上でボロン-リン-シリサイドガラス(BPSG)膜6を全体に覆い、SiO2 ,SiONまたはSiNである表面保護膜5を形成した素子に、直接第2マイクロレンズ2を形成し、その上にカラーフィルター4と中間膜3を形成し、さらに第1マイクロレンズ1を形成する。下段の第2マイクロレンズ2は、屈折率が中間膜3やBPSG膜6の屈折率より大きい材料で形成する。
請求項（抜粋）：
固体撮像素子が形成された半導体基板の上の受光部に対応してマイクロレンズが上下2層形成された構造の固体撮像装置であって、前記固体撮像素子の受光部の上方に半導体素子表面保護膜を備え、前記上下のマイクロレンズの間には中間膜を備え、前記上下のマイクロレンズの光屈折率が実質的に同じで、かつ光の透過率がほぼ等価であり、前記マイクロレンズ間に挟まれた中間膜より前記上下のマイクロレンズの光屈折率が大きいとともに、前記半導体素子表面保護膜から受光部までの膜の平均屈折率より前記上下のマイクロレンズの光屈折率が大きいことを特徴とする固体撮像装置。
IPC (5件)：
H01L 27/14
, H01L 21/28 301
, H01L 21/28
, H04N 5/335
, H01L 21/316
H01L 27/14 D
, H01L 21/28 301 T
, H01L 21/28 301 R
, H04N 5/335 F
, H01L 21/316 G
