特許
J-GLOBAL ID:200903088809625575

メタルマスク、このメタルマスクを用いた抵抗体の形成方法およびこのメタルマスクを用いた抵抗器の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 滝本 智之 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-022889
公開番号(公開出願番号):特開平11-222664
出願日: 1998年02月04日
公開日(公表日): 1999年08月17日
要約:
【要約】【課題】 特性変化の小さい抵抗体を形成するためのメタルマスクを提供するものである。【解決手段】 薄膜抵抗体をスパッタ工法を用いて形成する際に用いるメタルマスク51の開孔部52に、スパッタ蒸着源の方向にしたがって孔径を大きくしたテーパ53を設けるものである。
請求項(抜粋):
開孔部にスパッタ蒸着源の方向にしたがって孔径を大きくしたテーパを有するメタルマスク。
IPC (4件):
C23C 14/04 ,  H01C 7/00 ,  H01C 17/12 ,  H01L 21/203
FI (4件):
C23C 14/04 A ,  H01C 7/00 D ,  H01L 21/203 S ,  H01C 17/12
引用特許:
審査官引用 (7件)
  • 薄膜積層コンデンサの製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-017179   出願人:松下電器産業株式会社
  • 特開昭63-117486
  • 特開昭63-117486
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