多孔性支持体の後修飾

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松本研一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-547474
公開番号（公開出願番号）：特表2005-510593
出願日： 2002年11月26日
公開日（公表日）： 2005年04月21日
要約：

本発明は、一つもしくはそれ以上の未反応の二重結合を含む多孔性ポリマー性多糖支持体の後修飾のための方法であって、その方法がポリマー性支持体を少なくとも一つのグラフト化化合物を含む液相と接触させることおよび得られた混合物においてフリーラジカル反応を開始することを含み、そこではグラフト化化合物が、任意に一つもしくはそれ以上のヘテロ原子を含むところの、直線状もしくは環状の炭素鎖に結合される反応性基としての二重結合より成る、方法に関する。有利なグラフト化化合物はビニルエーテルもしくはヒドロキシビニルエーテルである。本発明はまた本発明にしたがう方法により後修飾されているポリマー性支持体ならびに、例えばクロマトグラフィーにおける、そのような支持体の使用を包含する。

請求項（抜粋）：

一つもしくはそれ以上の未反応の二重結合を含む多孔性ポリマー性多糖支持体の後修飾のための方法であって、その方法は、 (a)ポリマー性支持体を、少なくとも一つのグラフト化化合物を含む液相と接触させること; (b)工程(a)から得られた混合物において当該ポリマー性支持体上の一つもしくはそれ以上の二重結合およびグラフト化化合物上の一つもしくはそれ以上の反応性基の間で、フリーラジカル反応を開始すること、ならびに任意に (c)ポリマー性支持体を洗浄して、過剰のグラフト化化合物を除去すること; の工程を含み、そこでは少なくとも一つのグラフト化化合物が、下の一般式(I):

IPC (3件)：

C08F251/00 , B01J20/26 , G01N30/48

FI (5件)：

C08F251/00 , B01J20/26 L , G01N30/48 N , G01N30/48 P , G01N30/48 Z

Fターム (27件)：

4D017AA09 , 4D017BA07 , 4D017CA13 , 4D017CA14 , 4D017DA03 , 4G066AC01C , 4G066AC12B , 4G066AE04B , 4G066AE05B , 4G066CA54 , 4G066DA07 , 4G066EA01 , 4G066FA07 , 4J026AA01 , 4J026AC22 , 4J026AC36 , 4J026BA15 , 4J026BA16 , 4J026BB01 , 4J026CA02 , 4J026CA10 , 4J026DB02 , 4J026DB12 , 4J026DB22 , 4J026EA02 , 4J026FA02 , 4J026GA02

引用特許：

審査官引用 (10件)

分離剤の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-322247 出願人：三菱化学株式会社
特開昭55-123610
有機ポリマー微粒子およびその製法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-338403 出願人：日本ペイント株式会社

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