特許
J-GLOBAL ID:200903088888342443

多重潜像素子およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 杉本 修司 ,  野田 雅士 ,  堤 健郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-007510
公開番号(公開出願番号):特開2008-175916
出願日: 2007年01月16日
公開日(公表日): 2008年07月31日
要約:
【課題】本発明は、鮮明な偏光性の多重潜像素子を簡便な製造方法で提供する。【解決手段】複屈折誘起材料の光照射物で形成された素子であって、(i)前記複屈折誘起材料は、感光性基を有する高分子で構成され、(ii)前記光照射物は、電界振動方向の異なる直線偏光性の照射線がそれぞれ露光用マスクを介して多重照射された照射物であり、かつ(iii)偏光性の多重潜像を有する単層の素子。【選択図】図5
請求項(抜粋):
複屈折誘起材料の光照射物で形成された素子であって、(i)前記複屈折誘起材料は、感光性基を有する高分子で構成され、(ii)前記光照射物は、電界振動方向の異なる直線偏光性の照射線がそれぞれ露光用マスクを介して多重照射された照射物であり、かつ(iii)偏光性の多重潜像を有する単層の素子。
IPC (2件):
G02B 5/30 ,  G09F 3/02
FI (2件):
G02B5/30 ,  G09F3/02 W
Fターム (5件):
2H049BA02 ,  2H049BA42 ,  2H049BC05 ,  2H049BC08 ,  2H049BC22
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (3件)

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