特許
J-GLOBAL ID：200903088934021258

試料寸法検査・測定方法、及び試料寸法検査・測定装置

発明者：
諸熊 秀俊

諸熊 秀俊 について

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杉山 明之

杉山 明之 について

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松岡 良一

松岡 良一 について

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酢谷 拓路

酢谷 拓路 について

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豊田 康隆

豊田 康隆 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： 井上 学
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2007052795
公開番号（公開出願番号）：WO2007-094439
出願日： 2007年02月09日
公開日（公表日）： 2007年08月23日
要約：
本発明の主たる目的の1つは、二次元パターンのエッジをエッジの方向に関わらず常に同じ精度でエッジ位置を検出する試料寸法測定方法、及び試料寸法測定装置を提供することにある。 本発明によれば、上記目的を達成するために、検査対象パターンのパターンエッジ方向に対する電子ビームの走査方向による、二次電子の信号波形の変化を補正することを提案する。また、電子ビームの走査方向を測定するパターンの方向にあわせて変化させる場合は、走査方向と走査位置の誤差を補正することを提唱する。このような構成によれば、電子ビームの走査方向に関わらず、十分なエッジ検出精度を得ることができる。
請求項（抜粋）：
荷電粒子線を試料上で走査して得られる信号波形を使って検査対象パターンのパターンエッジ位置を特定し、前記検査対象パターンの設計データと前記パターンエッジとの距離を計測するパターンの測長方法において、 前記検査対象パターンのパターンエッジ方向を計測する手段と、前記検査対象パターンのパターンエッジ方向に対する前記荷電粒子線の走査方向との相対角度計測する手段と、前記相対角度による前記信号波形の歪みを予測する手段と、前記予測した信号波形の歪みを補正する手段と、前記補正した信号波形からパターンエッジ位置を特定することを特徴とするパターンの検査,測定方法。
IPC (2件)：
G01B 15/00 ,  H01L 21/66
FI (2件)：
G01B15/00 K ,  H01L21/66 J
Fターム (29件)：
2F067AA13 ,  2F067AA16 ,  2F067AA21 ,  2F067AA33 ,  2F067AA54 ,  2F067BB04 ,  2F067CC17 ,  2F067GG08 ,  2F067HH06 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK04 ,  2F067QQ02 ,  2F067RR04 ,  2F067RR07 ,  2F067RR28 ,  2F067RR30 ,  2F067RR35 ,  2F067RR44 ,  2F067SS02 ,  2F067SS13 ,  4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106CA39 ,  4M106DB05 ,  4M106DB21 ,  4M106DJ14 ,  4M106DJ19 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ21
引用特許：
出願人引用 (2件)

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