パターン検査装置および方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：渡邉勇 , 堀田信太郎 , 小杉良二 , 森友宏 , 廣澤哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-360974
公開番号（公開出願番号）：特開2004-163420
出願日： 2003年10月21日
公開日（公表日）： 2004年06月10日
要約：

【課題】基準パターンを活用して基準データをもとにして各種の計測条件を自動設定することができるパターン検査装置および方法を提供する。【解決手段】検査対象パターンを基準パターンと比較して検査するパターン検査装置であって、基準パターンを記憶する記憶手段2と、荷電粒子線を検査対象パターンに走査して検査対象パターンの画像を得る画像生成装置7と、検査対象パターンの画像を入力する入力手段4と、入力された検査対象パターンの画像のエッジと記憶された基準パターンのエッジとを比較することにより、検査対象パターンを検査する検査手段と、検査の結果を出力する出力手段5,6とを備え、画像生成装置7は基準パターンに基づいて荷電粒子線の走査方向を設定する。【選択図】図64

請求項（抜粋）：

検査対象パターンを基準パターンと比較して検査するパターン検査装置であって、前記基準パターンを記憶する記憶手段と、荷電粒子線を検査対象パターンに走査して検査対象パターンの画像を得る画像生成装置と、前記検査対象パターンの画像を入力する入力手段と、前記入力された検査対象パターンの画像のエッジと前記記憶された基準パターンのエッジとを比較することにより、前記検査対象パターンを検査する検査手段と、前記検査の結果を出力する出力手段とを備え、前記画像生成装置は前記基準パターンに基づいて前記荷電粒子線の走査方向を設定することを特徴とするパターン検査装置。

IPC (3件)：

G01N23/225 , G01B15/04 , H01L21/66

FI (3件)：

G01N23/225 , G01B15/04 , H01L21/66 J

Fターム (55件)：

2F067AA26 , 2F067AA54 , 2F067BB04 , 2F067CC00 , 2F067CC16 , 2F067CC17 , 2F067EE10 , 2F067GG06 , 2F067GG08 , 2F067HH06 , 2F067JJ05 , 2F067KK04 , 2F067NN03 , 2F067NN04 , 2F067RR00 , 2F067RR07 , 2F067RR08 , 2F067RR12 , 2F067RR20 , 2F067RR24 , 2F067RR30 , 2F067RR31 , 2F067RR32 , 2F067RR33 , 2F067RR36 , 2F067RR40 , 2F067RR41 , 2G001AA03 , 2G001BA07 , 2G001CA03 , 2G001FA01 , 2G001FA06 , 2G001GA03 , 2G001GA06 , 2G001GA13 , 2G001JA01 , 2G001JA07 , 2G001JA12 , 2G001JA16 , 2G001KA03 , 2G001LA11 , 2G001MA05 , 2G001PA12 , 4M106AA01 , 4M106AA02 , 4M106BA02 , 4M106BA03 , 4M106CA39 , 4M106DB04 , 4M106DB05 , 4M106DB12 , 4M106DE01 , 4M106DE04 , 4M106DJ18 , 4M106DJ21

引用特許：

出願人引用 (8件)

特開昭63-210606
特開平3-235949
パタ-ン欠陥検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-125591 出願人：株式会社日立製作所

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審査官引用 (8件)

特開昭63-210606
特開平3-235949
パタ-ン欠陥検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-125591 出願人：株式会社日立製作所

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